Chipfabriek Intel voor 45 nm spoorbreedte

Intel bouwt in New Mexico aan een vernieuwde chipfabriek voor structuren met een breedte van 45 nanometer.

Intel trekt een tot anderhalf miljard dollar uit om ook z’n chipfabriek in New Mexico geschikt te maken voor het vervaardigen van halfgeleiders met een een spoorbreedte van 45 nanometer. De installatie in Rio Rancho wordt Intels vierde productiefaciliteit met deze technologie.

Het bedrijf is verwikkeld in een hevige concurrentiestrijd met AMD, dat eveneens werkt aan de introductie van chips met 45 nanometerbedrading. Intel zegt de eerste commerciele leveringen op dit gebied al in de tweede helft van dit jaar te voorzien, vanuit fabrieken in Oregon en Arizona. AMD, dat bij de overstap op 65 nanometer nog een riante voorsprong had op Intel, zou pas in 2008 de eerste 45-namometerproducten kunnen leveren.  (Bron: Automatiserings Gids)