17 feb. 1999
1 minuut
Ingenieur Erik Loopstra en natuurkundige Vadim Banine zijn genomineerd voor de jaarlijkse uitvindersprijzen van het Europees Octrooibureau (EOB). Ze zijn genomineerd voor hun rol bij de ontwikkeling van Extreme Ultraviolet Lithography (EUVL) microchipfabricage. De prijswinnaars worden 7 juni bekendgemaakt.
De innovatieprijzen van het EOB omvatten 5 categorieën en in totaal 15 finalisten. Loopstra en Banine, die allebei al twee decennia bij ASML werken, zijn genomineerd in de categorie ‘Industrie’ voor hun onderscheidende bijdrage aan de ontwikkeling van EUVL. Het EOB noemt de ontwikkeling van EUVL ‘een grote stap voorwaarts’.
EUVL-machines etsen met hoogenergetische lasers details op nanoschaal in silicium-wafers voor de productie van microchips. De techniek bespaart chipmakers tijd en geld in de productie van de volgende generaties microchips die innovaties op het gebied van consumentenelektronica, gezondheid, entertainment, zelfrijdende auto’s, robotica en kunstmatige intelligentie mogelijk moeten maken. ASML heeft de eerste 3 EUVL-machines vorig jaar verkocht en verwacht er dit jaar 30 uit te leveren.
Erik Loopstra is al meer dan 25 jaar systeemengineer bij ASML en studeerde werktuigbouwkunde aan de Technische Universiteit Delft. Momenteel werkt Loopstra aan de volgende generatie optische systemen voor EUVL bij ASML-leverancier ZEISS in Duitsland.
De natuurkundige Vadim Banine deed twee jaar postdoctoraal onderzoek aan de Technische Universiteit Eindhoven (TU/e), waar hij ook promoveerde. In 1996 ging hij bij ASML werken. Sindsdien past hij zijn wetenschappelijke inzichten toe op het realiseren van technologische doorbraken in EUVL.
Anderen lazen ook
