1 feb. 2020
1 minuut
ASML werkt aan de opvolger voor de EUV-chipmachine – en bouwt tegelijk alvast de gebouwen voor de clean rooms + toebehoren voor de productie van deze machines. De high-NA-machines zijn twee keer zo groot als de EUV’s en vragen dus ook een twee keer zo grote clean room, een twee keer zo grote aanvoer van verse lucht, etcetera.
Het lijkt wel of ASML in zijn eentje de wet van Moore probeert waar te maken. Waar je met een EUV-machine al enkele miljarden schakelingen op een chip kunt etsen, komen daar met de high-NA-machine weer enkele miljarden bij. De numerieke apertuur (NA), ofwel de openingshoek van het objectief, wordt bij deze machines van 0,33 naar 0,55 gebracht. Hoe groter deze waarde, hoe kleiner de structuren die op de wafers kunnen worden geprojecteerd. De schakelingen worden dan 3 nanometer breed, tegen 7 bij een EUV-machine.
ASML verwacht de eerste machines van dit nieuwe type al in 2022 te leveren. De ontwikkeltijd is dus een stuk korter dan die van de EUV-machine. Dat komt doordat de rest van het procedé hetzelfde blijft. Om de NA te kunnen vergroten, zijn vooral betere spiegels nodig. Die worden door toeleverancier Zeiss tot op atomair niveau glad geslepen.
De high-NA-machines gaan 250 miljoen euro per stuk kosten (een EUV-machine kost 130 miljoen). De uitbreiding van de fabriek kost 1 miljard. ASML maakt van de gelegenheid gebruik om het hele bedrijf te clusteren, want nu zitten er nog divisies verspreid door Veldhoven en dat werkt niet efficiënt.
Anderen lazen ook
